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三氟化氮

2025/7/21



  电子级三氟化氮(NF₃)的技术指标需根据应用场景(如半导体蚀刻、清洗、光伏等)严格分级,核心指标如下:

  

  一、基础纯度等级

  

等级‌

‌纯度要求(体积分数)‌

‌适用场景‌

基础电子级‌

≥99.99%(4N)

光伏电池、LCD面板制造等

高纯级‌

≥99.996%(4N6)

28nm以上半导体制程

超高纯级‌

≥99.999%(5N)

先进制程(14nm以下)、冷壁CVD腔室清洗

尖端级‌

≥99.9999%(6N)

3nm/5nm芯片制造、光刻胶剥离

  注‌:全球约92.8%的电子级NF₃集中在5N级别,6N级因工艺难度市场份额不足8% 。

  

  二、关键杂质限值(以5N级为例)

  

杂质类型‌

‌限值要求‌

‌超标后果‌

氧+氩(O₂+Ar)‌

≤0.5ppm(5N级要求≤1ppm)

晶圆表面氧化膜异常,阈值电压漂移

水分(H₂O)‌

≤0.5ppm(露点≤-76℃)

加速腔体腐蚀,降低蚀刻选择性

氟化氢(HF)‌

≤0.1ppm

腐蚀真空泵油,损伤硅晶格结构

一氧化碳(CO)‌

≤0.5ppm

降低薄膜沉积均匀性

金属离子总量‌

≤1ppb(Na/Fe/K等)

引发电路短路,器件漏电

颗粒物(≥0.1μm)‌

≤0.1个/mL

造成芯片表面缺陷

可水解氟化物‌

≤0.03mg/L

污染晶圆表面

  特殊控制项‌:

  磷化氢(PH₃)、砷化氢(AsH₃)需 ≤0.05 ppb(6N级)

  温室气体潜能(GWP) ≤17,000(参照IPCC标准)

  

  三、包装与储运规范

  容器要求‌

  镍基合金/铬钼合金钢瓶,内壁电解抛光钝化处理。

  阀门材质为铜合金,配备双阻断防泄漏装置。

  充装标准‌

  充装压力≤1.5 MPa,采用三级压力稳定装填法

  充装系数≤0.76 kg/L(三氟甲烷类比要求)

  储运条件‌

  避光储存于≤30℃ 环境,湿度 45–65%。

  运输过程需监测压力波动(颠簸频率≤2.5次/秒)。

  泄漏报警阈值0.5%,爆炸极限 2.3–82%。

  

  四、检测方法与标准依据

  

检测项目‌

‌方法‌

‌标准依据‌

纯度与杂质气体‌

氦离子化气相色谱法(检出限10⁻⁶级)

GB/T28726

水分‌

光腔衰荡光谱法(精度±0.01ppm)

GB/T5832.3

金属离子‌

ICP-MS(检出限0.1ppb)

SEMI C10/ISO 15587

颗粒物‌

激光颗粒计数器(0.1–10μm)

ISO 21501

可水解氟化物‌

离子色谱法(检出限0.03mg/L)

GB/T 31995

  执行标准‌:

  纯度与安全:GB/T 21287-2021(替代2007版)

  运输安全:TSG R0006《气瓶安全技术监察规程》

  

  五、应用风险关联性

  半导体蚀刻‌:

  HF >0.1 ppm 将腐蚀真空系统,O₂ >1 ppm 导致晶圆阈值电压漂移 。

  腔体清洗‌:

  水分>0.5 ppm 降低冷壁清洗效率,金属残留 >1 ppb 引发器件失效 。

  光伏制造‌:

  颗粒物超标造成太阳能电池表面微裂纹,光电转换率下降≥15% 。

  某晶圆厂因氧含量超标(5 ppm)导致整批芯片报废,损失超千万美元 。

  


下一个

六氟化钨

上一个

溴化氢